新·尺寸測量方式，從此開始

　　借助全新的圖像尺寸測量儀，用戶放置部件后只需按一下即可執(zhí)行自動測量。新的測量方法無需使用XY座標(biāo)臺，顛覆了傳統(tǒng)的邏輯。

　　任何人均可快速、精確、簡單地進行測量，無需擔(dān)心人為因素而產(chǎn)生的差別。

　　檢測時間縮短的原因 1

　　連貫，突破性的圖像尺寸測量

　　使用HY-6000 尺寸測量儀后，檢測時間大幅縮短。 我們能夠?qū)桓队唵我约巴蝗灰笤黾赢a(chǎn)量作出快速回應(yīng)， 又不會錯過承諾的交付日期，這都要歸功于這部測量儀。

　　1. 放置目標(biāo)

　　2. 按下測量

　　只需簡單的兩步即可完成多點測量！

　　檢測時間縮短的原因 2

　　只需放置后按下按鈕，無需定位

　　只需將目標(biāo)放入座標(biāo)臺的測量區(qū)域，按下測量按鈕，即可輕松完成測量。 目標(biāo)的位置和角度會根據(jù)預(yù)先寄存的目標(biāo)圖樣進行檢測。

　　工時的比較

　　例如，當(dāng)一個物品的檢測時間為 10 分鐘，一天檢測50 個物品所導(dǎo)致的結(jié)果就是每年的檢測時間為 2000 小時。

　　使用圖像尺寸測量儀將會把一個物品的測量時間縮短為幾秒鐘，從而把每年的檢測時間縮短至 40 小時。

　　節(jié)省下的時間可以用于測量點眾多而需要花費更多時間的檢測。

　　邊緣位置的自動亞像素檢測

　　使用HY-6000圖像尺寸測量儀的連續(xù)測量功能時無需進行邊緣調(diào)整和找出原位的操作。所有的測量都是通過自動檢測圖像的對比度（邊緣）而執(zhí)行，不會受人為因素的影響，確保了高重復(fù)性。

　　最小二乘法擬合處理

　　至于線或圓的邊緣檢測，須指定所謂的“邊緣檢測區(qū)域”。在此邊緣區(qū)域中會使用亞像素處理

　?。ㄐ∮?0.01 個像素）方法檢測多個邊緣點（對比度）。

　　例如，檢測線的默認(rèn)設(shè)置可以檢測 100 多個點。 使用最小二乘法根據(jù)邊緣點創(chuàng)建一條直線。

　　實際情況中邊緣可能不平滑，而最小二乘法擬合會將此影響降至最低。

　　易讀取的趨勢圖一目了然

　　所有的測量結(jié)果會自動保存在控制器內(nèi)置

　　的硬盤中。

　　通過檢索測量結(jié)果還能自動計算各種統(tǒng)計

　　資料。

　　例如，您能輕松查看顯示隨時間變化的趨

　　勢圖，使用戶可以預(yù)測到潛在的問題，并在其

　　發(fā)生之前將其消除。

　　能夠回應(yīng) 100% 檢測的要求

　　傳統(tǒng)的光學(xué)比較器和測量顯微系統(tǒng)無法應(yīng)對全部檢測的要求。采用HY-6000之后，我們可以毫無困難地執(zhí)行全部檢測。 由于全部數(shù)量都可以獲得檢測，因此后續(xù)訂單不斷。

　　因此，我們增加了檢測的數(shù)量，實現(xiàn)了更高的可靠性。

　　首個物品的檢測時間縮短使我們與之前相比能在更短的時間內(nèi)檢測更多部件。

　　檢測數(shù)量的增加使不良率降低。 同時，對數(shù)據(jù)的充分管理也幫助我們得到更多訂單。

　　試用產(chǎn)品交付時間的縮短以及精度的提升帶來了更多的大訂單。

　　檢測所需的時間以及不穩(wěn)定的測量結(jié)果影響了交付日期。使用HY-6000執(zhí)行的測量能在短時間內(nèi)提供穩(wěn)定的測量，幫助縮短了交付時間并提高了精度。 在完成數(shù)個制造商的試用產(chǎn)品訂單后經(jīng)常會選擇一個批量生產(chǎn)的制造商?，F(xiàn)在我們有更多的機會能從試用品生產(chǎn)發(fā)展為批量生產(chǎn)了。

　　通過升級我們的檢測/管理系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)記錄，我們結(jié)識了新的顧客。

　　我們在尋找新的顧客以提升我們的業(yè)務(wù)能力。過去我們總是為如何向各公司展示我們的技術(shù)力量而困擾。 現(xiàn)在我們通過有效地演示更好的質(zhì)量控制系統(tǒng)，并利用HY-6000圖像尺寸測量儀所提供的測量結(jié)果，統(tǒng)計資料和報告展示數(shù)據(jù)，從而結(jié)識了新的顧客。

　　測量精度

　　HY-6000系列圖像尺寸測量儀具備一個大視野測量模式，可以覆蓋?50mm的視野，以及另一個高精度測量模式，可以對?25mm的區(qū)域進行高精度測量。

　　下表中的規(guī)格顯示了測量精度和重復(fù)精度。

　　*1. 2σ，距座標(biāo)臺中心 ?20 mm的范圍內(nèi)，焦點位置上的工作溫度范圍為 +23±1.0°C。

　　*2. 2σ，距座標(biāo)臺中心 ?80 mm的范圍內(nèi)，焦點位置上的工作溫度范圍為 +23±1.0°C。