| 儀器型號(hào): | JW-BK200C |
| 原理方法: | 氣體吸附法，靜態(tài)容量法； |
| 測(cè)試功能: | 等溫吸脫附曲線；單點(diǎn)、多點(diǎn)BET比表面積；Langmuir比表面積；外表面積（STSA）；吸附總孔體積、平均孔徑；BJH介孔大孔孔容積及孔徑分布分析；t-plot法、αs- plot法、DR法、MP法微孔常規(guī)分析；HK法、SF法微孔精確分析；NLDFT法孔徑分布分析；真密度測(cè)試；氣體吸附量、吸附熱測(cè)試；質(zhì)量輸入法測(cè)試； |
| 測(cè)試氣體: | 氮、氧、氫、氬、氪、二氧化碳、甲烷等； |
| 測(cè)試范圍: | 比表面積0.005(m2/g)--至無上限；介孔、大孔分析2nm-500nm； 微孔分析0.35nm-2nm；總孔體積0.0001cc/g—至無上限； |
| 重復(fù)精度: | 比表面積≤± 1.0%；外表面積≤± 1.5%；微孔最可幾孔徑≤0.01nm； |
| 測(cè)試效率: | 比表面積平均每樣15min；介孔、大孔分析平均每樣2-3小時(shí)；微孔分析平均每樣5-8小時(shí)； |
| 分析站: | 2個(gè)完全獨(dú)立樣品分析站，可同時(shí)進(jìn)行真空脫氣預(yù)處理；每個(gè)分析站原配單獨(dú)的3L真空玻璃內(nèi)膽杜瓦瓶，共2個(gè)； |
| P0位: | 每個(gè)樣品分析站設(shè)有獨(dú)立的P0管，共2支，由單獨(dú)的進(jìn)口壓力傳感器控制，完全同分析位分開，可實(shí)時(shí)、準(zhǔn)確測(cè)量氮?dú)獾娘柡驼羝麎?，并?shí)時(shí)參與理論計(jì)算； |
| 升降系統(tǒng): | 2個(gè)樣品分析站原位設(shè)有2套獨(dú)立的升降系統(tǒng)，電動(dòng)控制、自動(dòng)控制，且互不干擾； |
| 真空系統(tǒng): | 全不銹鋼多通路并聯(lián)抽真空管路系統(tǒng)，真空抽速微調(diào)閥系統(tǒng)專利技術(shù)，可在2-200ml/s范圍內(nèi)自動(dòng)調(diào)節(jié)； |
| 真空泵: | 外置式進(jìn)口雙級(jí)旋片式機(jī)械真空泵（自動(dòng)防返油）+ 內(nèi)置式進(jìn)口渦輪分子泵，極限真空度可達(dá)10-6Pa； |
| 脫氣系統(tǒng): | 同位、異位真空脫氣預(yù)處理系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)化設(shè)計(jì)，由單獨(dú)的進(jìn)口壓力傳感器控制，完全同分析位分開，可實(shí)時(shí)、準(zhǔn)確測(cè)量脫氣系統(tǒng)的真空度:2個(gè)獨(dú)立加熱包，2套獨(dú)立溫控表，均可程序升溫控制，升溫階數(shù)多達(dá)10階，既可進(jìn)行樣品的同位脫氣處理，也可進(jìn)行樣品的異位脫氣處理；2個(gè)樣品進(jìn)行分析測(cè)試的同時(shí)，可以進(jìn)行另外兩個(gè)樣品的真空脫氣處理； |
| 脫氣溫度: | 室溫—400℃，精度±1℃； |
| 壓力傳感: | 原裝進(jìn)口硅薄膜電容式多壓力傳感器，1000 torr(133.3KPa)、10torr(1.333KPa)、1torr(0.1333KPa)或0.1torr(0.01333KPa)，精度≤± 0.15％； |
| 分壓范圍: | P/Po 準(zhǔn)確可控范圍達(dá)10-8-0.998 ，可測(cè)1000點(diǎn)以上； |
| 壓力控制: | 平衡壓力智能控制法，壓力可控間隔＜0.1KPa，吸附最高壓力點(diǎn)可自動(dòng)控制； |
| 數(shù)據(jù)采集: | 以太網(wǎng)數(shù)據(jù)采集，采集速度快、精度高，兼容Windows 7/XP 32/64位系統(tǒng)； |